Prouve Kryjący podkład do twarzy Even & Perfect Skin

Znasz sekret perfekcyjnego makijażu? Podstawą idealnego make-upu jest nieskazitelna cera. Aby uzyskać taki efekt, sięgnij po nasz Kryjący podkład do twarzy Even & Perfect Skin, który doskonale wyrównuje i ujednolica koloryt skóry, maskuje niedoskonałości i przebarwienia oraz tuszuje oznaki zmęczenia. W kilka chwil przywróci cerze piękny, naturalny i świeży wygląd.

Za co go pokochasz: za jego długotrwałą formułę, która sprawia, że utrzymuje się na twarzy przez wiele godzin. Dzięki lekkiej i kremowej konsystencji, bardzo łatwo się rozprowadza i idealnie stapia ze skórą, tworzy aksamitne, matowe wykończenie – bez efektu maski.

Co Cię w nim zachwyci: jego niezwykle delikatna formuła, która jest odpowiednia dla wszystkich typów cery, również wrażliwej.

Co jeszcze warto o nim wiedzieć: podkład został wzbogacony o aktywny składnik pozyskiwany z bambusa, który nawilża i odżywia skórę oraz łagodzi podrażnienia.

Jak go używać: nanieś na twarz niewielką ilość podkładu i rozprowadź równomiernie. Aplikuj go opuszkami palców, za pomocą gąbeczki lub pędzla.

Pojemność: 30ml

Skład produktu: FULL COVERAGE FOUNDATION EVEN & PERFECT SKIN

Aqua, Cyclopentasiloxane, CI 77891, Isododecane, Talc,
Hydrogenated Polydecene, Propanediol, Propylene
Glycol, Lactobacillus/Arundinaria Gigantea Ferment
Filtrate, Boron Nitride, Synthetic Fluorphlogopite,
Polyglyceryl-4 Isostearate, Cetyl PEG/PPG-10/1
Dimethicone, Hexyl Laurate, Disteardimonium Hectorite,
Phenoxyethanol, Magnesium Sulfate, Dimethicone
Crosspolymer, Lauryl PEG/PPG-18/18 Methicone,
Propylene Carbonate, Acrylates Copolymer, Parfum,
Alumina, Triethoxycaprylylsilane, Ethylhexylglycerin,
Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate,
Isostearyl Alcohol, Dimethicone/Vinyl Dimethicone
Crosspolymer, Alcohol, Dimethiconol, PPG-2-Deceth-30,
Sodium Laureth Sulfate, Sodium Dehydroacetate,
[+/-]: CI 77492, CI 77491, CI 77499